3.6.2 マスク生成

定義のある用語

紹介だけの用語

(1) Optical Proximity Correction (OPC)

OPCOptical Proximity Correction

近接効果(Optical Proximity

解像度

マスクパターン

開口数(NA, Numerical Aperture

露光

プロセス定数

ArF光源

RETResolution Enhancement Technology

露光装置

モデルベースOPC

ドライ

液浸

プロセス条件

露光光学系

ルールベースOPC

露光シミュレーション

(2) Phase Shift Mask PSM

位相シフトマスク(PSMPhase Shift Mask

ハーフトーンマスク

Alternative PSM

レベンソンマスク

Attenuated PSM

位相シフター

(3) Dummy Metal Fill

Dummy Metal Fill

配線パターン

 

ダミーパターン

化学的機械研磨(CMPChemical Mechanical Polishing

寄生容量(Parasitic Capacitance

エッチング

 

抵抗容量抽出(RC extraction)(RCResistance and Conductance

CMPモデル

 

モデルベース