3.6.2　マスク生成

	定義のある用語	紹介だけの用語
(1) Optical Proximity Correction (OPC)	OPC（Optical Proximity Correction）	近接効果（Optical Proximity）
	解像度	マスクパターン
	開口数（NA, Numerical Aperture）	露光
	プロセス定数	ArF光源
	RET（Resolution Enhancement Technology）	露光装置
	モデルベースOPC	ドライ
		液浸
		プロセス条件
		露光光学系
		ルールベースOPC
		露光シミュレーション
(2) Phase Shift Mask （PSM）	位相シフトマスク（PSM：Phase Shift Mask）	ハーフトーンマスク
	Alternative PSM
	レベンソンマスク
	Attenuated PSM
	位相シフター
(3) Dummy Metal Fill	Dummy Metal Fill	配線パターン
	ダミーパターン	化学的機械研磨（CMP：Chemical Mechanical Polishing）
	寄生容量（Parasitic Capacitance）	エッチング
	抵抗容量抽出（RC extraction）（RC：Resistance and Conductance）	CMPモデル
		モデルベース